Semi-conducteurs : Un prototype EUV chinois signalé par Reuters

Selon des informations rapportées par Reuters ce 17 décembre, la Chine aurait franchi une étape technique significative dans sa quête d’indépendance vis-à-vis des technologies occidentales et du monopole du néerlandais ASML.

• Un prototype fonctionnel : Un système de lithographie EUV (Ultraviolet Extrême) aurait été assemblé dans un centre de R&D à Shenzhen. Si la machine n’est pas encore au stade de la production de masse, elle serait capable de générer la lumière nécessaire à la gravure.
• Le rôle de Huawei : Le géant technologique chinois piloterait ce projet, potentiellement en collaboration avec d’anciens ingénieurs du secteur et en s’appuyant sur la chaîne d’approvisionnement locale.

Horizon 2028 : L’objectif affiché serait de rendre cette technologie viable pour une production commerciale d’ici trois ans.

Le contexte : Actuellement, ASML est la seule entreprise au monde capable de produire les machines EUV indispensables pour graver les puces les plus avancées (sous les 7nm). Ce monopole est au cœur des restrictions à l’exportation imposées par les États-Unis et les Pays-Bas.

Si ces rapports se confirment, cela marquerait une accélération du développement de la filière chinoise de semi-conducteurs (SMEE, Naura) face aux sanctions.